维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 适用于半导体液态化学品测量 该折光仪外形紧凑，流通池采用改良超纯 PTFE 制成，适用于半导体液态化学品测量。可通过 ¼ 至 1 英寸的皮拉 Pillar 或扩口 Flare 连接。 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 用于晶圆洁净室里的化学品浓度监测，通常被安装在混合、清洗、蚀刻和 (CMP) 等机台上。 联系我们 晶圆厂化学品工艺 探索所有应用 PR-33-S 包含一个超纯改性 PTFE 流通池主体和一根以太网线，不同标准的以太网供电 (PoE) 开关均可通过以太网线向传感器供电，并将数据传输给计算机。PR-33-S 实时监测化学品浓度，当化学品浓度超出规定范围时，立即通过以太网反馈报警。例如，可通过配置低浓度和高浓度警报来控制和延长溶液使用寿命。这里的浓度通过对溶液折射率 nD 和温度测量来确定。 PR-33-S 直接通过喇叭形或pillar配件进行安装。PR-33-S 结构紧凑，不含金属，体积小。 关键要素： N.I.S.T. 标准下的可追溯校准及验证，采用标准折射率液体和验证程序进行验证。 光学核心设计。 通过以太网进行数据记录和远程界面操作。 标准 UDP/IP 通信。 过程温度范围：-20°C – 85°C (-4°F – 185°F)。 内置 Pt1000 快速温度测量及自动温度补偿 。 主要优点 全数字化设备 维萨拉 K‑PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S 用于过程监控，可提供连续的以太网输出信号，设计紧凑，可直接串接在过程管路上。 满量程下保持精确稳定测量 折光率测量范围 nD 1.3200–1.5300，相当于 0-100%（重量百分比）。对于高浓度 HF，可选范围为 nD 1.2600–1.4700。标称准确度为 R.I.+ 0.0002，通常相当于 0.1%（按重量百分比计），例如，盐酸浓度。 测量不受颗粒、气泡、紊流及 PPM 浓度级别微量杂质影响。 易于维护 光学核心设计。 无漂移。无需重新校准。无需进行机械调节。 产品文档 Docs.vaisala.com 更多的 图册: 维萨拉 K-PATENTS® 半导体行业用折光仪 PR-33-S (1.98 MB) 客户案例 案例 维萨拉是许多半导体制造厂测定钨的 CMP 研磨液中 H2O2 浓度的仪器供应商 维萨拉 K‑PATENTS 半导体行业用折光仪为半导体制造环境设计。该仪器尺寸小且不含金属，因此适合在不影响工艺的情况下测量化学物质。 了解更多
